FZ NTD Siliziumwafer

Beschreibung

FZ-NTD Siliziumwafer, bekannt als Float-Zone Neutron Transmutation Doped Silicon Wafer.Es kann sauerstofffreies, hochreines Silizium mit dem höchsten spezifischen Widerstand gewonnen werden by Float-Zone FZ (Zone-Floating) Kristallzüchtung, HFZ-Siliziumkristalle mit hohem spezifischem Widerstand werden häufig durch Neutronentransmutationsdotierung (NTD) dotiert, bei dem Neutronenbestrahlung auf undotiertes Floatzone-Silizium, um Siliziumisotope zu erzeugen, die mit Neutronen eingefangen werden, und dann in die gewünschten Dotierstoffe zerfallen, um das Dotierungsziel zu erreichen.Durch Anpassung der Höhe der Neutronenstrahlung kann der spezifische Widerstand verändert werden, ohne externe Dotierstoffe einzubringen und somit die Materialreinheit zu gewährleisten.FZ NTD-Siliziumwafer (Float Zone Neutron Transmutation Doping Silicon) haben erstklassige technische Eigenschaften von gleichmäßiger Dotierungskonzentration und gleichmäßiger radialer Widerstandsverteilung, niedrigste Verunreinigungsgrade,und hohe Minoritätsträgerlebensdauer.

Lieferung

Als marktführender Anbieter von NTD-Silizium für vielversprechende Energieanwendungen und im Anschluss an die wachsende Nachfrage nach Wafern auf höchstem Qualitätsniveau, überlegene FZ NTD-Siliziumwaferbei Western Minmetals (SC) Corporation können unseren Kunden weltweit in verschiedenen Größen von 2″, 3″, 4″, 5″ und 6″ Durchmesser (50 mm, 75 mm, 100 mm, 125 mm und 150 mm) und einem breiten Spektrum an spezifischem Widerstand angeboten werden 5 bis 2000 Ohm.cm in den Ausrichtungen <1-1-1>, <1-1-0>, <1-0-0> mit wie geschnittener, geläppter, geätzter und polierter Oberfläche in Schaumstoffbox oder -kassette , oder als kundenspezifische Spezifikation zur perfekten Lösung.